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不同细分领域对洁净室的要求

2026 09 22 12:06:34

不同细分领域对洁净室的要求

 

行业 制程工序 洁净度要求 温湿度要求 引用规范
半导体 光刻工艺 ISO 1-3 级(每立方米≥0.1μm 颗粒≤10/100/1000 个);露点温度≤-70℃ 温度:22±0.5℃(波动 ±0.1℃);湿度:45±5% RH(波动 ±2% RH) ISO 14644-1:2015、SEMI F21
半导体 刻蚀/CVD/沉积 ISO 3-5 级 温度:23±1℃;湿度:40±10% RH GB 50073-2013、SEMI S2
半导体 晶圆检测/量测 ISO 5 级 温度:22±0.5℃(波动 ±0.1℃);湿度:无特殊明确要求(参考行业通用范围 40-65% RH) ISO 14644-1:2015、GB 50073-2013
半导体 封装测试 ISO 5-7 级 温度:22-25℃;湿度:45±5% RH GB 50472-2008
电子 SMT 贴片 ISO 5-7 级(0.5μm 颗粒≤3520/35200/293000 个/m³);0201 元件区域需 ISO 5 级 温度:23±3℃;湿度:45-60% RH ISO 14644-1:2015、GB 50472-2008
电子 PCB 制造 曝光区 / 钻孔区 ISO 5 级;一般区域 ISO 7-8 级 温度:22±1℃;湿度:45±5% RH ISO 14644-1:2015、IEST-RP-CC018
电子 精密电子组装 ISO 7-8 级 温度:20-26℃;湿度:40-65% RH GB 50073-2013
光电 LCD 制造 核心区 ISO 5 级;辅助区 ISO 7 级 温度:23±1℃;湿度:45±5% RH GB 50472-2008、ISO 14644-1:2015
光电 OLED 制造 蒸镀工序 ISO 4 级(氧含量 < 0.1ppm);封装前 ISO 1 级(氧 / 水 < 1ppm,惰性环境) 温度:23±0.5℃;湿度:45±5% RH;柔性 OLED 贴合需 ±0.5℃/±5% RH 超稳定环境 ISO 14644-1:2015、SEMI 标准
光电 光学器件制造 ISO 4-5 级 温度:22±1℃;湿度:45±5% RH ISO 14644-1:2015、GB 50073-2013
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